Компания GEW проектирует и изготавливает автономные лабораторные УФ-установки, незаменимые для исследований и разработки либо проверки свойств типографской краски…
Специалисты GEW проектируют и изготавливают оборудование УФ-лабораторий, которое применяется для исследований и разработок, а также для использования в помещениях печатного цеха. Система отверждения, основанная на действии ртутной или светодиодной лампы может быть отгружена непосредственно со склада, чего не скажешь о специальных лабораторных системах. Их изготавливают согласно техническим условиям заказчика, так как они должны отвечать целому ряду требований при использовании в любой комбинации с УФ-системами GEW.
Светодиодный лабораторный стендовый блок GEW обеспечивает быстрое и точное УФ-облучение образцов или радиометра. Он может быть отрегулирован под различную длину волны согласно требованиям.
Лабораторный конвейерный блок GEW может быть оснащен любой комбинацией производственных систем УФ-отверждения GEW (дуговая, светодиодная или эксимерная).
Лабораторная ламповая УФ-установка GEW представляет собой единое устройство с точными характеристиками, устанавливаемое на блоке УФ-сушки в лабораторных условиях, либо в условиях малого производства.
